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검색글 Kuniaki MURASE 5건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

비정질 Ni-Mo 합금 매트릭스에서 TiO2 입자의 복합 전착은 아나타제 또는 브루카이트 TiO2 입자가 현탁된 시트레이트 용액 (pH5.0) 을 사용하였다. 200g dm2 의 TiO2 를 함유하는 용액으로부터 백색의 균일한 복합 피막을 얻었다. Ni-Mo 합금 매트릭스의 조성은 TiO2 를 포함해도 변경되지 않은 상태로 ...

합금/복합 · 표면기술 · 56권 11호 2005년 · Kuniaki MURASE · Masato ISHIDA 외 .. 참조 19회

카드뮴-텔루륨 CdTe 화합물 반도체의 밴드 갭은 실온에서 1.5 eV 정도이며, 태양에서 전기 에너지로 변환하는데 적합하기 때문에 차세대 태양전지 재료의 하나로서 기대되고 있다. CdTe 의 성막 법으로 근접 승화법이나 스크린 인쇄법 등 건식법에, 대면적의 박막을 저렴하게 제조하는데 적합한 수용액...

전기도금기타 · 표면기술 · 53권 8호 2002년 · Kuniaki MURASE · Takeshi HONDA 외 .. 참조 33회

구리(ii) 이온을 산화제로 할때 질화티타늄 TiN 또는 질화탄탈룸 TaN 의 표면일부가 용해되어 만들어진 전자에 따라 구리가 환원석출 되는 치환반응을 구성하여, 이것이 베리어재의 표층에 생성된 구리층을 전해 또는 무전해도금의 시드층으로의 공정을 검토

합금/복합 · 표면기술 · 52권 11호 2001년 · Kuniaki MURASE · Shigeo FURUTA 외 .. 참조 29회

캡메탈로서 응용목적으로 린이 공석하지않는 히드라진을 환원제로 하용하여, 텅스텐을 함유하고 인을 함유하지 않는 코발트층을 무전해 도금법으로 동소지상에 성막을 검토 [ヒドラジンを還元剤とするタングステン含有コバルトの無電解めっき]

합금/복합 · 표면기술 · 55권 8호 2004년 · Kuniaki MURASE · Takehiko SAKURADA 외 .. 참조 35회

구연산을 함유한 산성수용액에서 카드뮴-텔루륨 CdTe 전석거동에 관한 조사결과의 보고

합금/복합 · 표면기술 · 55권 5호 2004년 · Kuniaki MURASE · Toru ODA 외 .. 참조 39회